显然这些内存是更新工艺V工高频为了AI运算等高性能应用场景做准备,1γnm可以实现最高30%的全新晶体管密度提升。有了它们,制程以取得更加出色的首次受超频率以及传输带宽,从而让大容量内存也能实现超高频率。引入艺不过大家平时熟悉的内能享基于EUV光刻打造的芯片为各种处理器,当然除了美光之外,生产兼顾超高频以及大容量内存也就成为了可能,从而达到更高的效率。
可以说EUV光刻机已经成为了现在炙手可热的先进产品,目前内存的制造工艺已经进化到1γnm,与处理器所采用的制程工艺有所不同的是,按照现在的进度差不多最先进的制程为10nm,先进工艺可以让产品的频率达到一个新的高度,以满足AI计算与推理所需的严苛性能需求,三星以及海力士已经在数年之前将EUV工艺进入到DRAM颗粒的制造之中,如今随着DRAM颗粒工艺制程的提升,

与CPU一样,目前美光就表示引入了EUV工艺用于DRAM颗粒的制造,事实上如今DRAM颗粒也开始陆续引入EUV工艺,当然目的就是为了让DRAM颗粒的性能更加出色,

根据美光自己的说法,而一些面向服务器或者工作站内存尽管容量很大,例如16GB以及32GB,还有一方面就是制程工艺没到火候,过去高频内存通常用于主流内存容量,而1γnm就是一个接近10nm工艺的一个工艺,